赵志娟，刘芬，赵良仲

（中国科学院化学研究所，北京 100190）

摘要: 用X射线光电子能谱法（XPS）测定了BiI₃与nylon11作用生成纳米复合材料后聚合物中酰胺基团的N、O内层能级电子结合能变化，同时用衰减全反射红外光谱法（ATR-IR）研究了BiI₃-nylon11复合材料中BiI₃对尼龙酰胺基团之间氢键作用的影响。结果表明，与纯nylon11聚合物相比，BiI₃-nylon11纳米复合材料中N1s、O1s的结合能要稍高一些；N-H伸缩振动、酰胺I谱带、酰胺II谱带振动频率在X射线照射前均发生显著位移，而X射线照射后没有明显的变化，只是谱带变宽。另一方面，无论X射线照射与否，CH₂伸缩振动基本不变。实验所得结果对于理解聚合物中氢键相互作用及其对复合材料的结构和性能的影响有一定意义。

关键词：纳米复合材料；X射线光电子能谱；衰减全反射红外光谱

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《分析测试技术与仪器》，2011, 17(1):42~46